PAT
Previous Analisys of distortion and Transformation of coordinates
あらかじめ同一パターンを持つ先行のマスクを作製してどのような位置ずれが発生するかを確かめ，正規のマスクを作製するとき，その位置ずれとは逆方向にパターンをずらして描画する方法（図）。
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あらかじめ同一パターンを持つ先行のマスクを作製してどのような位置ずれが発生するかを確かめ，正規のマスクを作製するとき，その位置ずれとは逆方向にパターンをずらして描画する方法（図）。